真空鍍膜是在真空條件下，對(duì)光學(xué)零件鍍膜的工藝過(guò)程，一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來(lái)打到被鍍物體的表面上。此項(xiàng)技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片（光盤(pán)）上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。真空鍍鋁膜的生產(chǎn)過(guò)程中可以使用光密度在線(xiàn)檢測(cè)儀、真空鍍膜在線(xiàn)測(cè)試儀來(lái)進(jìn)行品質(zhì)監(jiān)控。

光密度檢測(cè)儀也叫光密度計(jì)，檢測(cè)的原理有四種測(cè)定方式：
1：測(cè)量薄層斑點(diǎn)透射光強(qiáng)度的透射法，適用于可見(jiàn)光區(qū)，其主要缺點(diǎn)是吸著劑和玻璃板本身會(huì)有吸收，而且薄層厚度不均勻會(huì)引起基線(xiàn)不穩(wěn)，對(duì)測(cè)量的準(zhǔn)確度有影響；
2：測(cè)量薄層斑點(diǎn)反射光強(qiáng)度的反射法，適用于紫外-可見(jiàn)光區(qū)，要求薄層表面十分平整；
3：同時(shí)測(cè)定透射光和反射光的透射-反射法，記錄兩種光信號(hào)值之和，這種方式較理想，基線(xiàn)平穩(wěn)，測(cè)量誤差小，靈敏度高；
4：如果化合物本身有熒光或經(jīng)過(guò)適當(dāng)處理后生成熒光化合物者也可用熒光測(cè)定法。
真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場(chǎng)合非常豐富?？傮w來(lái)說(shuō)，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，提供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。
真空鍍膜光密度測(cè)試范圍就是線(xiàn)性范圍，光密度值在這個(gè)范圍內(nèi)與待測(cè)試液的濃度成線(xiàn)性關(guān)系。由于真空鍍膜的厚度非常薄，所以必須通過(guò)光學(xué)性質(zhì)來(lái)檢測(cè)其鍍膜厚度的均勻性。光密度在線(xiàn)檢測(cè)儀就是專(zhuān)門(mén)為真空鍍鋁膜而設(shè)計(jì)生產(chǎn)的。?